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跨越先进制程的"深水区"：光学粒子监测与电化学痕量分析的双擎驱动战略

在3nm/2nm先进制程节点，单一纳米级颗粒污染即可导致数百万美元良率损失。Zolixtech提出以光学传感器（0.1μm@150psig）拦截物理杂质、电化学分析仪捕获化学痕量杂质的双重实时防线，将气路认证周期从14天压缩至3天内。